广东11选5开奖记录

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什么是表面等离子体共振?

  表面等离子波是在平行与金属/介质界面的方向上传播,而在垂直方向上是迅速衰减的,所以也可以说在垂直方向是局域的。这种情况下与纳米粒子是一样的,纳米粒子的等离子共振其实就是局域表面等离子共振。根据Mie……

ICP等离子体发射光谱优缺点

  我们平时说ICP等离子体发射光谱到底是做什么用的?在运用这项技术的时候它是有哪些优点和不足之处,下面我们就来一一列举出来。   1.因为ICP光源具有良好的原子化、激发和电离能力,所以它具有很好的检出限……

什么是等离子体刻蚀

  等离子体刻蚀(也称干法刻蚀)是集成电路制造中的关键工艺之一,其目的是完整地将掩膜图形复制到硅片表面,其范围涵盖前端CMOS栅极(Gate)大小的控制,以及后端金属铝的刻蚀及Via和Trench的刻蚀。在今天没有……

PVD和CVD的区别

  温度对于高速钢镀膜具有重大意义。CVD法的工艺温度超过了高速钢的回火温度,用CVD法镀制的高速钢工件,必须进行镀膜后的真空热处理,以恢复硬度。镀后热处理会产生不容许的变形。CVD工艺对进入反应器工件的清……

PVD电镀的优点

我们都知道在工业生产中都会用到PVD电镀,那么为什么要这样做呢?这样做有什么好处呢?我们下面就来说说PVD电镀和传统的电镀相比有什么优势。   1、金属外观。   2、颜色均匀一致。   3、耐久的表面,在各种……

什么是CVD?

  CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。   化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化……