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ICP等離子體發射光譜優缺點

  我們平時說ICP等離子體發射光譜到底是做什么用的?在運用這項技術的時候它是有哪些優點和不足之處,下面我們就來一一列舉出來。   1.因為ICP光源具有良好的原子化、激發和電離能力,所以它具有很好的檢出限……

什么是等離子體刻蝕

  等離子體刻蝕(也稱干法刻蝕)是集成電路制造中的關鍵工藝之一,其目的是完整地將掩膜圖形復制到硅片表面,其范圍涵蓋前端CMOS柵極(Gate)大小的控制,以及后端金屬鋁的刻蝕及Via和Trench的刻蝕。在今天沒有……

PVD和CVD的區別

  溫度對于高速鋼鍍膜具有重大意義。CVD法的工藝溫度超過了高速鋼的回火溫度,用CVD法鍍制的高速鋼工件,必須進行鍍膜后的真空熱處理,以恢復硬度。鍍后熱處理會產生不容許的變形。CVD工藝對進入反應器工件的清……

PVD電鍍的優點

我們都知道在工業生產中都會用到PVD電鍍,那么為什么要這樣做呢?這樣做有什么好處呢?我們下面就來說說PVD電鍍和傳統的電鍍相比有什么優勢。   1、金屬外觀。   2、顏色均勻一致。   3、耐久的表面,在各種……

什么是CVD?

  CVD技術是化學氣相沉積Chemical Vapor Deposition的縮寫。   化學氣相沉積乃是通過化學反應的方式,利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源,在反應器內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化……

什么是PVD涂層?

  PVD涂層是什么?有什么用呢?我們今天來分析下這個概念。   TiN(氮化鈦)涂層不僅具有耐高溫性(約600℃),而且還具有高度耐磨損性和耐腐蝕性。適用于切削工具、模具和鋼絲鉗等,具有用途廣泛的優點。   ……